Звіт: ASML розкриває прорив у EUV-джерелі світла, очікується, що виробництво чипів до 2030 року зросте на 50%

Дослідники з ASML заявили, що вони знайшли спосіб значно підвищити потужність світлового джерела ключових виробничих машин для мікросхем, що дозволить збільшити виробництво чипів до 50% до 2030 року. (Рейтер)

Попередження про ризики та відмову від відповідальності

Ринок має ризики, інвестиції слід здійснювати обережно. Цей матеріал не є інвестиційною порадою і не враховує особливі цілі, фінансовий стан або потреби окремих користувачів. Користувачі повинні самостійно оцінити, чи відповідають будь-які думки, погляди або висновки, наведені в цьому матеріалі, їхнім конкретним обставинам. Інвестуючи на основі цієї інформації, ви несете відповідальність за свої рішення.