🔥 Gate 廣場活動|#发帖赢Launchpad新币KDK 🔥
KDK|Gate Launchpad 最新一期明星代幣
以前想參與? 先質押 USDT
這次不一樣 👉 發帖就有機會直接拿 KDK!
🎁 Gate 廣場專屬福利:總獎勵 2,000 KDK 等你瓜分
🚀 Launchpad 明星項目,走勢潛力,值得期待 👀
📅 活動時間
2025/12/19 12:00 – 12/30 24:00(UTC+8)
📌 怎麼參與?
在 Gate 廣場發帖(文字、圖文、分析、觀點都行)
內容和 KDK 上線價格預測/KDK 項目看法/Gate Launchpad 機制理解相關
帖子加上任一話題:#发帖赢Launchpad新币KDK 或 #PostToWinLaunchpadKDK
🏆 獎勵設定(共 2,000 KDK)
🥇 第 1 名:400 KDK
🥈 前 5 名:200 KDK / 人(共 1,000 KDK)
🥉 前 15 名:40 KDK / 人(共 600 KDK)
📄 注意事項
內容需原創,拒絕抄襲、洗稿、灌水
獲獎者需完成 Gate 廣場身份認證
獎勵發放時間以官方公告為準
Gate 保留本次活動的最終解釋權
中微公司:發布六款半導體設備新產品
金十數據9月4日訊,中微公司公告稱,近日推出六款半導體設備新產品,包括兩款刻蝕設備和四款薄膜沉積設備。刻蝕設備方面,新一代極高深寬比等離子體刻蝕設備PrimoUD-RIE 和專注於金屬刻蝕的PrimoMenova 12寸ICP單腔刻蝕設備,旨在滿足客戶在極高深寬比刻蝕和金屬刻蝕領域的需求。薄膜沉積設備方面,包括三款原子層沉積產品和一款外延產品,如PreformaUniflash 金屬柵系列和PRIMIOEpita RP雙腔減壓外延設備。這些新產品預計將對公司未來半導體設備市場拓展和業績成長性產生積極影響。新產品尚處於市場導入初期,存在市場推廣和客戶驗證等風險,可能對公司收入和盈利帶來不確定性。